
熱門搜索:
代理日本品牌:OTSUKA大塚電子(薄膜測(cè)厚儀、相位差膜設(shè)備等)、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測(cè)器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

產(chǎn)品中心
-
CEDAR思達(dá)
-
Stucchi思多奇
-
NITTO KOHKI日...
-
Sankei
-
KYOWA協(xié)和工業(yè)
- DIT東日技研
- AITEC艾泰克
-
SIGMAKOKI西格瑪...
- REVOX萊寶克斯
- CCS 希希愛視
- SIMCO思美高
- POLARI0N普拉瑞
- HOKUYO北陽電機(jī)
- SSD西西蒂
- EMIC 愛美克
- TOFCO東富科
-
打印機(jī)
- HORIBA崛場(chǎng)
- OTSUKA大冢電子
- MITAKA三鷹
- EYE巖崎
- KOSAKA小坂
-
SAGADEN嵯峨電機(jī)
- TOKYO KEISO東...
- takikawa 日本瀧...
- Yamato雅馬拓
- sanko三高
- SEN特殊光源
-
SENSEZ 靜雄傳感器
- marktec碼科泰克
- KYOWA共和
- FUJICON富士
- SANKO山高
-
Sugiyama杉山電機(jī)
-
Osakavacuum大...
-
YAMARI 山里三洋
- ACE大流量計(jì)
- KEM京都電子
- imao今尾
- AND艾安得
- EYELA東京理化
- ANRITSU安立計(jì)器
- JIKCO 吉高
- NiKon 尼康
- DNK科研
- Nordson諾信
- PISCO匹斯克
- NS精密科學(xué)
- NDK 日本電色
-
山里YAMARI
- SND日新
-
Otsuka大塚電子
- kotohira琴平工業(yè)
- YAMABISHI山菱
- OMRON歐姆龍
- SAKURAI櫻井
- UNILAM優(yōu)尼光
-
氙氣閃光燈
-
UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
-
UV的水處理
-
檢測(cè)系統(tǒng)
-
光照射裝置
-
點(diǎn)光源曝光
-
變壓型電源供應(yīng)器
-
超高壓短弧汞燈
-
UV光洗凈
-
UV曝光裝置
-
uv固化裝置
-
紫外可見光光度計(jì)
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹:
MITAKA三鷹光器NH-3MAs非接觸式三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)微透鏡陣列(MLA)形狀光學(xué)表征設(shè)備它配備了NH系列的所有基本形狀測(cè)量功能,可以測(cè)量透鏡和模具的橫截面形狀,并用專用軟件集體測(cè)量曲率和中心坐標(biāo)。
詳情介紹:
國(guó)內(nèi)總代NH-3MAs非接觸式三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)MITAKA三鷹光器
長(zhǎng)處
通過高精度圖像處理可以評(píng)估鏡頭的光學(xué)特性
評(píng)估項(xiàng)目 : 有效焦距 / 后焦 / 透射率 / 焦距 / 焦距 / 焦深 / MTF
同時(shí)測(cè)量多個(gè)微透鏡陣列 (MLA)
使用如下所示的測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)用顯微鏡鏡頭放大平行光的集中圖像(針孔狹縫圖像),并由CCD相機(jī)捕獲圖像。 通過對(duì)圖像進(jìn)行圖像處理來評(píng)估鏡頭的光學(xué)特性。
測(cè)量光學(xué)元件
多點(diǎn)微透鏡陣列(MLA)也可以同時(shí)測(cè)量
矩陣創(chuàng)建軟件
專用矩陣測(cè)量軟件可記憶陣列模式,實(shí)現(xiàn)平滑的自動(dòng)測(cè)量。
它是MLA研發(fā)和質(zhì)量控制的理想選擇,這些研發(fā)和質(zhì)量控制變得越來越大。
諾馬斯基微分干涉觀測(cè)
NH的顯微鏡部分可以配備諾馬斯基微分干涉光學(xué)元件。
該光學(xué)系統(tǒng)可直觀地捕獲普通明場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)無法觀察到的數(shù)十?的表面粗糙度和劃痕,并可以使用激光探頭在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行定量粗糙度和階梯測(cè)量。
帶有諾馬斯基光學(xué)器件的NH-3N
包含諾馬斯基法學(xué)院的
NH系列光路圖
測(cè)量功能
使用激光探頭測(cè)量透鏡形狀測(cè)量
?曲率半徑、中心坐標(biāo)值
、圓度、頂點(diǎn)高度、XY坐標(biāo)、橫截面
、3D形狀測(cè)量、各透鏡表面的表面粗糙度
測(cè)量
光學(xué)表征通過圖像處理測(cè)量
?有效焦距、后焦、有效MLA焦距、各鏡頭的集光位置
、錯(cuò)位、各鏡頭的對(duì)焦光斑尺寸
、透射率
、焦
平面上的圖像形成評(píng)估(彗差、畸變等)、
景深(可選)
?MTF測(cè)量(可選)
通過高精度圖像處理可以評(píng)估鏡頭的光學(xué)特性
評(píng)估項(xiàng)目 : 有效焦距 / 后焦 / 透射率 / 焦距 / 焦距 / 焦深 / MTF
同時(shí)測(cè)量多個(gè)微透鏡陣列 (MLA)
使用如下所示的測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)用顯微鏡鏡頭放大平行光的集中圖像(針孔狹縫圖像),并由CCD相機(jī)捕獲圖像。 通過對(duì)圖像進(jìn)行圖像處理來評(píng)估鏡頭的光學(xué)特性。

測(cè)量光學(xué)元件

多點(diǎn)微透鏡陣列(MLA)也可以同時(shí)測(cè)量
矩陣創(chuàng)建軟件
專用矩陣測(cè)量軟件可記憶陣列模式,實(shí)現(xiàn)平滑的自動(dòng)測(cè)量。
它是MLA研發(fā)和質(zhì)量控制的理想選擇,這些研發(fā)和質(zhì)量控制變得越來越大。
它是MLA研發(fā)和質(zhì)量控制的理想選擇,這些研發(fā)和質(zhì)量控制變得越來越大。

諾馬斯基微分干涉觀測(cè)
NH的顯微鏡部分可以配備諾馬斯基微分干涉光學(xué)元件。
該光學(xué)系統(tǒng)可直觀地捕獲普通明場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)無法觀察到的數(shù)十?的表面粗糙度和劃痕,并可以使用激光探頭在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行定量粗糙度和階梯測(cè)量。
該光學(xué)系統(tǒng)可直觀地捕獲普通明場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)無法觀察到的數(shù)十?的表面粗糙度和劃痕,并可以使用激光探頭在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行定量粗糙度和階梯測(cè)量。

帶有諾馬斯基光學(xué)器件的NH-3N

包含諾馬斯基法學(xué)院的
NH系列光路圖
NH系列光路圖
使用激光探頭測(cè)量透鏡形狀測(cè)量
?曲率半徑、中心坐標(biāo)值
、圓度、頂點(diǎn)高度、XY坐標(biāo)、橫截面
、3D形狀測(cè)量、各透鏡表面的表面粗糙度
測(cè)量
、圓度、頂點(diǎn)高度、XY坐標(biāo)、橫截面
、3D形狀測(cè)量、各透鏡表面的表面粗糙度
測(cè)量
光學(xué)表征通過圖像處理測(cè)量
?有效焦距、后焦、有效MLA焦距、各鏡頭的集光位置
、錯(cuò)位、各鏡頭的對(duì)焦光斑尺寸
、透射率
、焦
平面上的圖像形成評(píng)估(彗差、畸變等)、
景深(可選)
?MTF測(cè)量(可選)
、錯(cuò)位、各鏡頭的對(duì)焦光斑尺寸
、透射率
、焦
平面上的圖像形成評(píng)估(彗差、畸變等)、
景深(可選)
?MTF測(cè)量(可選)
產(chǎn)品留言
標(biāo)題
聯(lián)系人
聯(lián)系電話
內(nèi)容
注:1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發(fā)送信息!
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!