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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹:
TSUBOSAKA壺坂 紫外線曝光裝置 UVL-3
光刻工序中簡(jiǎn)易曝光燒結(jié)裝置
桌面型、一體型,節(jié)省空間
配備彩色 LCD 和十字鍵
**控制照射時(shí)間
詳情介紹:
產(chǎn)品名稱 | UV EXPOSURE EQUIPMENT |
---|---|
產(chǎn)品名稱 | 紫外線曝光裝置 |
類型表達(dá)式 | UVL-3 |
光源 | 超高壓汞燈 250W |
輻照度[mW/τ] |
常用:20 - 22 *大值:24 |
照度面 (WxH)[mm] |
照射范圍:φ155 有效:φ113 mm |
照度不均[± %] | 有效面內(nèi) 8 |
查看和操作 |
主體操作 和外部通信控制 |
曝光時(shí)間 | 0.1 - 99.9 (長(zhǎng)達(dá) 99 小時(shí)) |
樣品臺(tái) | 帶固定式、平面微調(diào)機(jī)構(gòu) |
樣品尺寸 [mm x mm] | 100 x 100 |
通信 I/F |
連接器:USB 2.0 類型-B 通信:通過(guò)虛擬 COM 端口 UART |
電源電壓 | AC100V 50/60Hz |
功耗[VA] | 450 |
操作環(huán)境 |
溫度 : 5 - 35 °C ] 濕度 : 80 [%] 或更少,無(wú)冷凝 |
尺寸 (WxHxD) [mm] | 422.5mm (W) ×781mm (H) ×357mm (D) 不包括投影 |
重量[kg] | 30 |
擴(kuò)展 |
[可選] ?輻照度變化(更改為 20 或更少) ,曝光蒙版支持(添加掩膜支架和樣品托盤(pán)) [自定義] 和樣品尺寸更改(由于照射范圍也更改,因此自定義支持) |
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