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產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
光刻工序中簡易曝光燒結(jié)裝置
桌面型、一體型,節(jié)省空間
配備彩色 LCD 和十字鍵
**控制照射時間
[操作說明]
(1)接通電源使燈點(diǎn)亮
(2)燈穩(wěn)定后,調(diào)整并登記
放射照度(3)設(shè)定
曝光時間(以放射照度×?xí)r間顯示曝光量)
(4)曝光
時間曝光時自動快門開閉
在手動曝光的情況下, 一邊觀察曝光量一邊手動開閉快門
詳情介紹:
產(chǎn)品名稱 | 紫外線曝光裝置 |
---|---|
類型表達(dá)式 | UVL-3 |
光源 | 超高壓汞燈 250W |
輻照度[mW/τ] |
常用:20 - 22 *大值:24 |
照度面 (WxH)[mm] |
照射范圍:φ155 有效:φ113 mm |
照度不均[± %] | 有效面內(nèi) 8 |
查看和操作 |
主體操作 和外部通信控制 |
曝光時間 | 0.1 - 99.9 (長達(dá) 99 小時) |
樣品臺 | 帶固定式、平面微調(diào)機(jī)構(gòu) |
樣品尺寸 [mm x mm] | 100 x 100 |
通信 I/F |
連接器:USB 2.0 類型-B 通信:通過虛擬 COM 端口 UART |
電源電壓 | AC100V 50/60Hz |
功耗[VA] | 450 |
操作環(huán)境 |
溫度 : 5 - 35 °C ] 濕度 : 80 [%] 或更少,無冷凝 |
尺寸 (WxHxD) [mm] | 422.5mm (W) ×781mm (H) ×357mm (D) 不包括投影 |
重量[kg] | 30 |
擴(kuò)展 |
[可選] ?輻照度變化(更改為 20 或更少) ,曝光蒙版支持(添加掩膜支架和樣品托盤) [自定義] 和樣品尺寸更改(由于照射范圍也更改,因此自定義支持) |
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