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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S

  • 產(chǎn)品型號：
  • 產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
  • 產(chǎn)品價格：0
  • 折扣價格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司OTSUKA大塚 Zeta電位，粒徑，分子量測量系統(tǒng) ELSZneo OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S
詳情介紹：

特征
  • 可在紫外可見光（300~800nm）波長范圍內(nèi)進行橢圓參數(shù)測量。
  • 能夠?qū){米量級的多層薄膜進行膜厚分析
  • 通過 400 個或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜
  • 用于薄膜詳細分析的可變反射角測量
  • 通過創(chuàng)建光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫和添加配方注冊功能來提高可操作性

 

測量項目
  • 橢圓參數(shù) （tanψ， cosΔ） 測量
  • 光學常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
  • 膜厚分析

 

測量對象
  • 半導體晶片
    柵極氧化薄膜、氮化物薄膜
    SiO    2，Si x Oy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3罪xOy，多晶硅，硒化鋅，BPSG，TiN
    光刻膠光學常數(shù)（波長色散）
  • 化合物半導體
    鋁    x加語（1-x）作為多層，非晶硅
  • FPD
    取向膜
  • 各種新材料
    DLC（類金剛石碳）、超導薄膜、磁頭薄膜
  • 光學薄膜
    TiO    2，SiO2，防反射膜
  • 在 G 線 （436nm）、H 線 （405nm） 和 I 線 （365nm）
    等波長下進行光刻 N，K 評估

 



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