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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：日本DNK科研曝光機光刻機圓晶

  • 產(chǎn)品型號： 片狀基材用
  • 產(chǎn)品廠商：DNK 科研
  • 產(chǎn)品價格：0
  • 折扣價格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
主要特長 除近接曝光外，還可對應(yīng)接觸曝光(軟接觸和硬接觸) 可對應(yīng)幅度為500mm以上的大型膠片。 采用獨自的光學系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。 裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現(xiàn)透明材料的對位。 除Roll to Roll外可設(shè)計枚葉式搬送等機構(gòu),根據(jù)客戶的需要構(gòu)成裝置。 可選擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)
詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 

光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要用途

  • 觸摸屏、電子紙、光學膠片(3D等)、有機EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板

適合觸摸屏、電子紙、光學膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應(yīng)Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。


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